[发明专利]彩色滤光层及其制造方法有效
| 申请号： | 200910158834.4 | 申请日： | 2009-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN101609227A | 公开（公告）日： | 2009-12-23 |
| 发明（设计）人： | 黄建文;林建宏;郭文瑞 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 梁 挥;祁建国 |
| 地址： | 台湾*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种彩色滤光层及其制造方法，该方法提供具有一像素区域的基板，像素区域包括多个第一、第二、第三子像素区域，每一第一、第二、第三子像素区域的间距为P。在基板上设置掩模，掩模具有多个透光图案。以掩模进行曝光以及显影程序，在每一第一子像素区域形成第一颜色滤光图案。之后使掩模相对于基板往第一方向移动2N×P距离，以掩模进行曝光及显影程序，以在每一第二子像素区域形成第二颜色滤光图案，N为正整数。使掩模相对于基板往第二方向移动2M×P距离，以掩模进行第三次曝光及显影程序，在每一第三子像素区域形成第三颜色滤光图案，M为正整数，M≠N，且第二方向与第一方向相反。两相邻的子像素区域内的彩色滤光图案具有不同的轮廓。 | ||
| 搜索关键词： | 彩色 滤光 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种彩色滤光层的制造方法，其特征在于，包括：提供一基板，该基板上具有一像素区域，且该像素区域包括多个第一子像素区域、多个第二子像素区域以及多个第三子像素区域，其中每一第一、第二、第三子像素区域的间距为P；在该基板上设置一掩模，其中该掩模上具有多个透光图案；以该掩模进行第一次曝光以及显影程序，以于每一第一子像素区域中形成一第一颜色滤光图案；使该掩模相对于该基板往该第一方向移动2N×P的距离之后，以该掩模进行一第二次曝光以及显影程序，以于每一第二子像素区域中形成一第二颜色滤光图案，其中N为正整数；以及使该掩模相对于该基板往一第二方向移动2M×P的距离之后，以该掩模进行一第三次曝光以及显影程序，以于每一第三子像素区域中形成一第三颜色滤光图案，其中M为正整数，M不等于N，且该第二方向与该第一方向相反，其中两相邻的所述第一、第二以及第三子像素区域内的彩色滤光图案具有不相同的轮廓。
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