[发明专利]复合相位掩模板

摘要

本发明公开了一种复合相位掩模板，复合相位掩模板的相位分布函数包含正弦型和指数型两种函数，相位分布函数θ(x，y)的函数式如下：θ(x，y)＝α·x·[exp(βx²+exp(βy²)]+(1/2)α[sin(ωx)+sin(ωy)]，式中，α·x·[exp(βx²+exp(βy²)]为指数型函数，(1/2)α[sin(ωx)+sin(ωy)]为正弦型函数；其中，α表示指数型函数和正弦型函数的幅值，β表示指数型函数的调制因子，ω表示正弦型函数的角频率，x，y为孔径平面归一化的空间坐标。本发明还公开了一种采用正弦型和指数型两种函数复合的复合相位掩模板的成像系统，该成像系统的Fisher信息的数值较小，对离焦不敏感，对离焦量有较好的抑制作用，具有较好的景深扩展能力。

主权项

1、一种复合相位掩模板，其特征在于：所述的复合相位掩模板的相位分布函数包含正弦型和指数型两种函数，相位分布函数θ(x，y)函数式如下：式中，α·x·[exp(βx2+exp(βy2)]为指数型函数，为正弦型函数；其中α表示指数型函数和正弦型函数的幅值，β表示指数型函数的调制因子，ω表示正弦型函数的角频率，x，y为孔径平面归一化的空间坐标。