[发明专利]复合相位掩模板

权利要求书

1.一种复合相位掩模板，其特征在于：所述的复合相位掩模板的相位分布函数包含正弦型和指数型两种函数，相位分布函数θ(x，y)函数式如下：

θ(x,y)=α·x·[exp(βx2+exp(βy2)]+12α[sin(ωx)+sin(ωy)]]]>

式中，α·x·[exp(βx²+exp(βy²)]为指数型函数，为正弦型函数；其中α表示指数型函数和正弦型函数的幅值，β表示指数型函数的调制因子，ω表示正弦型函数的角频率，x，y为孔径平面归一化的空间坐标。

2.一种成像系统，由成像镜头、复合相位掩模板、图像探测器、图像处理单元组成，其特征在于：所述的复合相位掩模板的相位分布函数包含正弦型和指数型两种函数，相位分布函数θ(x，y)函数式如下：

θ(x,y)=α·x·[exp(βx2+exp(βy2)]12+α[sin(ωx)+sin(ωy)]]]>

式中，α表示指数型函数和正弦型函数的幅值，β表示指数型函数的调制因子，ω表示正弦型函数的角频率，x，y为孔径平面归一化的空间坐标；

在成像系统中，成像目标通过成像镜头和相位掩模板后，在图像探测器上形成模糊的中间像，然后图像处理单元对中间像进行去卷积处理，最终得到聚焦清晰的图像。