[发明专利]一种X-射线滤光片的制备方法有效
| 申请号： | 200910076786.4 | 申请日： | 2009-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN101475698A | 公开（公告）日： | 2009-07-08 |
| 发明（设计）人： | 张静 | 申请（专利权）人： | 中国科学院高能物理研究所 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;C08L101/00;C08L75/04;C08L33/12;C08L77/00;C08L63/00;C08L67/00;C08K3/22;G21K3/00;G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王朋飞 |
| 地址： | 100049北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种X-射线滤光片的制备方法，其以金属氧化物纳米粒子为基质材料，有机高分子为基底材料，按照1∶5-2∶1的基质/基底重量比混合，通过自动涂膜机和湿膜制备器，制备厚度可控的金属氧化物纳米粒子/有机高分子薄膜，应用于X-射线滤光片。该方法能大大地减少涂料消耗及对人体和环境的污染，另外，通过调控X-射线滤光片中的金属氧化物纳米粒子及有机高分子的含量，可有效地降低在X射线吸收光谱的荧光模式测量中的散射背底，相对地增强在测量中的荧光信号。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 射线 滤光 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种X-射线滤光片的制备方法，其特征在于，该方法以金属氧化物纳米粒子为基质材料，有机高分子分散液为基底材料，按照1∶5-2∶1的基质/基底重量比混合，通过自动涂膜机和湿膜制备器，制备均匀分散的金属氧化物纳米粒子/有机高分子薄膜，即得。
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