[发明专利]基板湿式设备无效
| 申请号： | 200910055532.4 | 申请日： | 2009-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN101619456A | 公开（公告）日： | 2010-01-06 |
| 发明（设计）人： | 陈宇新 | 申请（专利权）人： | 上海广电光电子有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/08 | 分类号： | C23F1/08 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 | 代理人： | 白璧华 |
| 地址： | 200233上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基板湿式设备，包括入口单元、工艺处理单元、搬送单元及出口单元，基板由所述入口单元送进工艺处理单元进行湿刻，然后通过搬送单元送至出口单元，其中，所述入口单元或出口单元的四个边角处设置有位置传感器，当基板放置其中时，所述四个位置传感器分别和基板的四个边角对准。本发明提供的基板湿式设备，能够及时检测湿式刻蚀设备可能导致的玻璃基板缺角损伤问题。 | ||
| 搜索关键词： | 基板湿式 设备 | ||
【主权项】：
1、一种基板湿式设备，包括入口单元、工艺处理单元、搬送单元及出口单元，基板由所述入口单元送进工艺处理单元进行湿刻，然后通过搬送单元送至出口单元，其特征在于，所述入口单元或出口单元的四个边角处设置有位置传感器，当基板放置其中时，所述四个位置传感器分别和基板的四个边角对准。
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