[发明专利]去除光罩上的保护膜胶的方法无效
| 申请号： | 200910054801.5 | 申请日： | 2009-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN101957554A | 公开（公告）日： | 2011-01-26 |
| 发明（设计）人： | 刘戈炜;赵蓓 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 牛峥;王丽琴 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种去除光罩上的保护膜胶的方法，包括：将留有保护膜胶的光罩放置在真空室内，在所述真空室内通入氧气和水蒸气的混合气体；在真空室内氧气被电离为氧离子，水蒸气被电离为氢离子和氢氧根离子，电离得到的氧离子、氢离子和氢氧根离子与光罩的保护膜胶反应，去除光罩上的保护膜胶；在真空室内通入氮气，携带反应后的残余气体排除真空室。本发明在提高光罩使用寿命的前提下干净去除光罩上的保护膜胶。 | ||
| 搜索关键词： | 去除 光罩上 保护膜 方法 | ||
【主权项】：
一种去除光罩上的保护膜胶的方法，包括：将留有保护膜胶的光罩放置在真空室内，在所述真空室内通入氧气和水蒸气的混合气体；在真空室内氧气被电离为氧离子，水蒸气被电离为氢离子和氢氧根离子，电离得到的氧离子、氢离子和氢氧根离子与光罩的保护膜胶反应，去除光罩上的保护膜胶；在真空室内通入氮气，携带反应后的残余气体排除真空室。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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