[发明专利]金属嵌入式熔融石英宽带反射光栅有效
| 申请号： | 200910054514.4 | 申请日： | 2009-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN101609176A | 公开（公告）日： | 2009-12-23 |
| 发明（设计）人： | 周常河;曹红超;冯吉军 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种用于800纳米波段的金属嵌入式熔融石英宽带反射光栅，其特点在于该光栅的周期为450～550纳米、刻蚀深度700～900纳米，金膜的厚度为380～660纳米，光栅的占空比为0.4。本发明可使TE偏振光的-1级在130纳米(780-910纳米)的波长带宽内的衍射效率大于90％；当在相同的光栅结构参数，而在非利特罗角使用时，该光栅可在284纳米的宽带内，即780～1064纳米之间，TE偏振光的-1级衍射效率均高于80％。本发明金属嵌入式熔融石英宽带反射光栅由光学全息记录技术或电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺以及镀膜技术加工而成，取材方便，造价小，能大批量生产，具有重要的实用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 嵌入式 熔融 石英 宽带 反射光栅 | ||
【主权项】：
1、一种用于800纳米波段的金属嵌入式熔融石英宽带反射光栅，其特征在于该光栅的周期为450～550纳米、刻蚀深度为700～900纳米，金膜的厚度为380～660纳米光栅的占空比为0.4。
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