[发明专利]旋光聚氨酯脲红外低发射率材料及其制备方法

摘要

本发明的目的是提供一种旋光聚氨酯脲红外低发射率材料及其制备方法。该材料具有较高的旋光度、良好的热稳定性、可调的链结构、稳定的构象、良好的结晶性能以及良好的耐溶剂性，可以作为红外低发射率材料使用，也可用于红外隐身材料的聚合物基底。该材料由光学纯度为50～100％的R或S型1，1’-联萘-2，2’-二酚、二异氰酸酯和二胺，通过氢转移加成三单体聚合得到。该类材料的玻璃化温度大于200℃，热分解温度大于250℃，旋光度绝对值约为40°～150°，在25℃下8～14μm波段的平均红外发射率为0.350～0.800。

主权项

1.一种旋光聚氨酯脲红外低发射率材料，其特征在于该材料由R或S型1，1’-联萘-2，2’-二酚、二异氰酸酯和二胺，通过氢转移加成三单体聚合得到，其结构通式为：聚合度n为1～1000，其中，R₁为以下结构：中的一种；R₂为为以下结构：m＝2-9中的一种。