[发明专利]旋光聚氨酯脲红外低发射率材料及其制备方法有效
申请号: | 200910036266.0 | 申请日: | 2009-10-12 |
公开(公告)号: | CN101696260A | 公开(公告)日: | 2010-04-21 |
发明(设计)人: | 周钰明;王志强;孙艳青 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | C08G18/32 | 分类号: | C08G18/32;C08G18/10;C07C275/40;C07C273/18 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 叶连生 |
地址: | 210096*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 聚氨酯 红外 发射 材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种旋光聚氨酯脲红外低发射率材料,其特征在于该材料由R或S型1,1’-联萘-2,2’-二酚、二异氰酸酯和二胺,通过氢转移加成三单体聚合得到,其结构通式为:
聚合度n为1~1000,
其中,R1为以下结构:
中的一种;
R2为为以下结构:
中的一种。
2.一种如权利要求1所述的旋光聚氨酯脲红外低发射率材料的制备方法,其特征在于其制备方法为:
a)N2气氛下,将0.5~2mol/L光学纯度为50~100%的R或S型1,1’-联萘-2,2’-二酚的N,N-二甲基甲酰胺溶液升温至80~120℃后,按二异氰酸酯与1,1’-联萘-2,2’-二酚的摩尔比为2比1,加入0.5~2mol/L二异氰酸酯的N,N-二甲基甲酰胺溶液,反应5~10h,制得异氰酸基团封端的聚氨酯脲预聚物;
b)N2气氛下,将步骤a)中制得的聚氨酯脲预聚物降温至60~75℃后,按二胺与1,1’-联萘-2,2’-二酚的摩尔比为1比1,加入0.2~2mol/L二胺的N,N-二甲基甲酰胺溶液,反应5~8h,减压蒸馏脱除N,N-二甲基甲酰胺,30~50℃下真空干燥12~24h,得旋光聚氨酯脲粗品;
c)按每克旋光聚氨酯脲粗品用200~500mL无水乙醇,将步骤b)中制得的旋光聚氨酯脲粗品洗涤3~5次,20~40℃下真空干燥12~24h,得旋光聚氨酯脲红外低发射率材料。
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