[发明专利]一种无缝拼接大面积全息光栅的制备方法

摘要

本发明公开了一种无缝拼接大面积全息光栅的制备方法，利用第一参考光栅在干涉记录光场中的光学特性实时检测干涉记录光场与已记录主光栅部分之间位相和倾斜，利用第二参考光栅实时检测主光栅的位置，以实现光栅准确的无缝拼接。本发明创造性地提出了设置两个参考光栅的技术方案，通过第一参考光栅实现左、右两侧的调整，通过第二参考光栅解决移除第一参考光栅时造成的影响，从而实现了大面积全息光栅的无缝拼接，保证了衍射光栅线条的等距和平直性精度要求。

主权项

1. 一种无缝拼接大面积全息光栅的制备方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)在全息干涉记录光场中分别对两块全息干板进行曝光、显影，获得第一参考光栅和第二参考光栅；(2)将第一参考光栅置于待制作大面积全息光栅的主全息干板的前方中部，将第二参考光栅置于主全息干板的一侧边外侧，并使第一、第二参考光栅与主全息干板一起固定在可移动的曝光支架平台上，将主全息干板远离第二参考光栅的部分定义为左半边，靠近第二参考光栅的部分定义为右半边；(3)遮挡主全息干板，使第一参考光栅和第二参考光栅同时处于全息干涉记录光场中，调节曝光支架，使得第一参考光栅和第二参考光栅分别与干涉记录光场形成稀疏莫尔条纹；(4)平移曝光支架，使得第一参考光栅和主全息干板的左半边位于干涉记录光场内，记录第一参考光栅与干涉记录光场形成的莫尔条纹，对主全息干板的左半边曝光；(5)平移曝光支架，使得第一参考光栅、主全息干板的右半边和第二参考光栅位于干涉记录光场内，微调曝光支架和光路，使得第一参考光栅再现的莫尔条纹与步骤(4)记录的莫尔条纹一致，然后记录第二参考光栅与干涉记录光场形成的莫尔条纹；(6)移去第一参考光栅，观察第二参考光栅再现的莫尔条纹，通过微调曝光支架和光路，使得第二参考光栅再现的莫尔条纹与步骤(5)中记录的莫尔条纹一致，对主全息干板的右半边以及原来被第一参考光栅遮蔽的部分进行曝光，实现大面积全息光栅的制备。