[发明专利]透明导电薄膜用湿法蚀刻液及其制造方法无效
| 申请号： | 200910026139.2 | 申请日： | 2009-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN101519593A | 公开（公告）日： | 2009-09-02 |
| 发明（设计）人： | 赵佳;黄巍;顾奇 | 申请（专利权）人： | 苏州瑞晶化学有限公司;苏州苏电微电子信息化学品研发中心有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/00 | 分类号： | C09K13/00 |
| 代理公司： | 南京苏科专利代理有限责任公司 | 代理人： | 陈忠辉 |
| 地址： | 215128江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种透明导电薄膜用湿法蚀刻液及其制造方法，其配方：草酸(乙二酸)0.1％～11％，表面活性剂0.001wt％～10wt％，去离子水79～99.899wt％；制备时：先将去离子水加入分散锅中，搅拌下加入草酸、表面活性剂，搅拌10～60分钟，使其完全溶解均匀，过滤，出料。该蚀刻剂能在温和的条件下对无定形ITO层进行蚀刻，且蚀刻后不会有残渣，线条平整，精度高，其工艺操作十分方便、易于控制，广泛用于透明导电薄膜的蚀刻。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 导电 薄膜 湿法 蚀刻 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1. 透明导电薄膜用湿法蚀刻液，其特征在于其组分具有如下的重量百分比：草酸0.1％～11％，表面活性剂0.001wt％～10wt％，去离子水79～99.899wt％。
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