[发明专利]辐射源、光刻设备以及器件制造方法无效

专利信息
申请号: 200880124729.2 申请日: 2008-12-19
公开(公告)号: CN101911839A 公开(公告)日: 2010-12-08
发明(设计)人: V·Y·班尼恩;M·M·J·W·范赫彭;W·A·索尔 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: H05G2/00 分类号: H05G2/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王波波
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种辐射源,配置用以产生辐射。辐射源包括第一电极(11;61)和第二电极(12;62),配置成用以在使用期间产生放电,以由等离子体燃料产生用于发射辐射的等离子体。辐射源还包括:燃料供给装置,配置成将等离子体燃料供给到与所述第一电极(11;61)和第二电极(12;62)相关的燃料释放区域;和燃料释放装置,配置成引发从所述燃料释放区域的(由所述燃料供给装置供给的)燃料的释放。所述燃料释放区域与所述第一电极(11;61)和所述第二电极(12;62)间隔分开。
搜索关键词: 辐射源 光刻 设备 以及 器件 制造 方法
【主权项】:
一种辐射源,配置用以产生辐射,所述辐射源包括:第一电极(11;61)和第二电极(12;62),配置成用以在使用期间产生放电(Ed),以由等离子体燃料产生用于发射辐射的等离子体(RP);燃料供给装置(13;63),配置成将等离子体燃料供给到与所述第一电极(11;61)和第二电极(12;62)相关的燃料释放区域;和燃料释放装置(21),配置成从所述燃料释放区域引发由所述燃料供给装置供给的燃料的释放,所述燃料释放区域与所述第一电极(11;61)和所述第二电极(12;62)间隔开。
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