[发明专利]HVPE反应器装置无效
申请号: | 200880120364.6 | 申请日: | 2008-12-11 |
公开(公告)号: | CN101896639A | 公开(公告)日: | 2010-11-24 |
发明(设计)人: | 弗拉迪米尔·尼古拉耶夫;弗拉德斯拉夫·E·鲍格诺夫;马克西姆·A·欧得诺莱多夫;亚瑟·切伦科夫 | 申请(专利权)人: | 奥普特冈有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;F04C29/00;B01D53/34 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 李冬梅;郑霞 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 芬兰;FI |
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摘要: | HVPE反应器装置包括反应室(1)、用于将工艺气体引入反应室的气体进口(2)、残留气体出口(3)以及用于通过残留气体出口从反应室排出残留气体的泵(4),所述泵能够在所述反应室中产生并维持小于或等于大约100mbr的压强。根据本发明,反应器装置包括用于将溶解流体提供到泵以溶解在泵内表面上的残留气体的制剂的可能寄生沉积的设备(6,7,V2,V3)。 | ||
搜索关键词: | hvpe 反应器 装置 | ||
【主权项】:
一种HVPE反应器装置,包括反应室(1)、用于将工艺气体引入所述反应室的气体进口(2)、残留气体出口(3)、以及用于通过所述残留气体出口从所述反应室排出残留气体的泵(4),所述泵能够在所述反应室中产生并维持小于或等于大约100mbr的压强,特征在于,所述反应器装置包括用于将溶解流体提供到所述泵以溶解在泵内表面上的所述残留气体的制剂的可能寄生沉积的设备(6,7,V2,V3)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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