[发明专利]光学掩模以及光源装置有效
| 申请号： | 200880113901.4 | 申请日： | 2008-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN101849199A | 公开（公告）日： | 2010-09-29 |
| 发明（设计）人： | 安藤太郎;大竹良幸;井上卓;松本直也;丰田晴义 | 申请（专利权）人： | 浜松光子学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及光学掩模以及光源装置。该光学掩模是在输入光的光束截面中进行空间强度调制并输出该调制后的光的光学掩模，在被以规定位置作为中心的p个半径为r1～rp(p为偶数，rp＞rp-1＞…＞r2＞r1并且rp-rp-1＞rp-1-rp-2＞…＞r3-r2＞r2-r1＞r1)的各圆周划分并从内侧开始依次设定区域A0～Ap时，区域Am(m为0以上p以下的偶数)是光透过区域，区域An(n为0以上p以下的奇数)是光屏蔽区域。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 以及 光源 装置 | ||
【主权项】：
一种光学掩模，其特征在于，该光学掩模是在输入光的光束截面中进行空间强度调制并输出该调制后的光的光学掩模，在所述光学掩模被以规定位置作为中心的p个半径为r1～rp的各圆周划分，并从内侧开始依次设定区域A0～Ap时，区域Am是光透过区域，区域An是光屏蔽区域，其中，p为偶数，rp＞rp-1＞…＞r2＞r1并且rp-rp-1＞rp-1-rp-2＞…＞r3-r2＞r2-r1＞r1，m为0以上p以下的偶数，n为0以上p以下的奇数。
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