[发明专利]图案化光酸蚀刻以及由其制得的制品有效
| 申请号： | 200880018454.4 | 申请日： | 2008-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN101681109A | 公开（公告）日： | 2010-03-24 |
| 发明（设计）人： | 韦恩·S·马奥尼;史蒂文·D·泰斯 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;H01L21/02 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 郇春艳;樊卫民 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种制品，所述制品包括基底，所述基底包括可酸蚀刻层、水溶性聚合物基质和光酸产生剂。本发明还提供了一种图案化的方法，所述方法可提供可用于形成电活性器件的图案化层。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 化光酸 蚀刻 以及 制品 | ||
【主权项】：
1.一种制品，包括：基底，所述基底包括可酸蚀刻层；水溶性聚合物基质；和光酸产生剂。
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