[发明专利]用于无氮化硅的硅湿蚀刻的耐碱性负性光刻胶有效

专利信息
申请号: 200880012312.7 申请日: 2008-02-25
公开(公告)号: CN101657758A 公开(公告)日: 2010-02-24
发明(设计)人: X·钟;T·D·弗莱;J·马尔霍特拉 申请(专利权)人: 布鲁尔科技公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 朱黎明;王 颖
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种用于三维印刷机的可移动构建盒包括构建盒托盘,该托盘限定了用于零件装配的构建室和用于将粉末材料供应给构建室的材料进料室。构建室和进料室具有较低的活塞止杆。构建室活塞与构建室配合,并且在最低位置与构建室活塞止杆配合。进料室活塞与进料室配合,并且在最低位置与进料室活塞止杆配合。快速连接联接器在构建室活塞与构建室z轴致动器之间,该致动器用于在与构建室活塞连接时移动该构建室活塞。快速连接联接器在进料室活塞和进料室z轴致动器之间,该致动器用于在与进料室活塞连接时移动该进料室活塞。构建盒托盘容易从该三维印刷机上拆除。
搜索关键词: 用于 氮化 蚀刻 碱性 光刻
【主权项】:
1.一种可用作保护层的光敏组合物,所述组合物包含溶解或分散在溶剂体系中的第一聚合物、第二聚合物、以及光生酸剂,其中:所述第一聚合物包含:其中:各R1独立地选自氢和C1-C8烷基;各R2独立地选自氢、C1-C8烷基、以及C1-C8烷氧基;所述第二聚合物包含含环氧基团的重复单体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于布鲁尔科技公司,未经布鲁尔科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200880012312.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top