[发明专利]用于无氮化硅的硅湿蚀刻的耐碱性负性光刻胶有效
申请号: | 200880012312.7 | 申请日: | 2008-02-25 |
公开(公告)号: | CN101657758A | 公开(公告)日: | 2010-02-24 |
发明(设计)人: | X·钟;T·D·弗莱;J·马尔霍特拉 | 申请(专利权)人: | 布鲁尔科技公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 朱黎明;王 颖 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种用于三维印刷机的可移动构建盒包括构建盒托盘,该托盘限定了用于零件装配的构建室和用于将粉末材料供应给构建室的材料进料室。构建室和进料室具有较低的活塞止杆。构建室活塞与构建室配合,并且在最低位置与构建室活塞止杆配合。进料室活塞与进料室配合,并且在最低位置与进料室活塞止杆配合。快速连接联接器在构建室活塞与构建室z轴致动器之间,该致动器用于在与构建室活塞连接时移动该构建室活塞。快速连接联接器在进料室活塞和进料室z轴致动器之间,该致动器用于在与进料室活塞连接时移动该进料室活塞。构建盒托盘容易从该三维印刷机上拆除。 | ||
搜索关键词: | 用于 氮化 蚀刻 碱性 光刻 | ||
【主权项】:
1.一种可用作保护层的光敏组合物,所述组合物包含溶解或分散在溶剂体系中的第一聚合物、第二聚合物、以及光生酸剂,其中:所述第一聚合物包含:其中:各R1独立地选自氢和C1-C8烷基;各R2独立地选自氢、C1-C8烷基、以及C1-C8烷氧基;所述第二聚合物包含含环氧基团的重复单体。
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