[发明专利]溅射靶材以及由该溅射靶材所得的溅射靶有效
申请号: | 200880008239.6 | 申请日: | 2008-11-26 |
公开(公告)号: | CN101631893A | 公开(公告)日: | 2010-01-20 |
发明(设计)人: | 松前和男 | 申请(专利权)人: | 三井金属矿业株式会社 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人: | 黄 威;孙丽梅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于,提供一种能够可靠地减少电弧的产生且能够抑制裂纹和裂缝产生的溅射靶材以及由该溅射靶材所得的溅射靶。本发明的溅射靶材为,一种具有矩形状的溅射面、矩形状的侧面以及矩形状的粘合面并呈近似板状的溅射靶材,其特征在于,在通过构成该溅射靶材的多个面中的至少三个面抵接而形成的角部上,实施倒角处理。 | ||
搜索关键词: | 溅射 以及 所得 | ||
【主权项】:
1、一种溅射靶材,其具有矩形状的溅射面、矩形状的侧面以及矩形状的粘合面并呈近似板状,其特征在于,通过该溅射靶材所具有的多个面中的至少三个面抵接而形成的角部,具有被实施倒角处理而成的形状。
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