[实用新型]改良的磁溅射圆柱靶有效
| 申请号： | 200820094550.4 | 申请日： | 2008-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN201209166Y | 公开（公告）日： | 2009-03-18 |
| 发明（设计）人： | 王佰忠 | 申请（专利权）人： | 王佰忠 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳市千纳专利代理有限公司 | 代理人： | 胡清方 |
| 地址： | 518000广东省深圳市龙岗区大*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种改良的磁溅射圆柱靶，包括靶头(1)和靶体(2)，所述靶头(1)位于靶体(2)之上，所述靶体(2)包括圆筒状的靶材(21)和位于靶材内的长形靶芯(22)，所述靶芯(22)包括冷却导水管槽(23)和设置在冷却导水管槽(23)外壁上的首尾相接的永久磁铁(24)，所述永久磁铁(24)仅设置冷却导水管槽(23)外壁的预定区域内，所述靶头(1)带动所述靶材(21)旋转。本实用新型可以实现定向溅射，可大大地节约靶材，从而降低被溅射工件的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 改良 溅射 圆柱 | ||
【主权项】：
1、一种改良的磁溅射圆柱靶，包括靶头和靶体，所述靶头位于靶体之上，所述靶体包括圆筒状的靶材和位于靶材内的长形靶芯，所述靶芯包冷却导水管槽和设置冷却导水管槽外壁上的首尾相接的永久磁铁，其特征在于：所述永久磁铁仅设置冷却导水管槽外壁的预定区域内，所述靶头带动所述靶材旋转，而靶芯不转。
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