[实用新型]光刻版夹具无效
| 申请号： | 200820092598.1 | 申请日： | 2008-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN201188170Y | 公开（公告）日： | 2009-01-28 |
| 发明（设计）人： | 王友旺 | 申请（专利权）人： | 深圳深爱半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人： | 郑小粤 |
| 地址： | 518029广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种光刻版夹具，包括一底座，所述底座上固设有一安装架，所述安装架边缘设有内径小于光刻版外径的夹持部，所述夹持部内侧设有放置光刻版的凸垫，其中，所述夹持部由韧性材料制成；所述底座中心还设有一可与马达/电机配合的转动装置。所述转动装置为设置于底座中心的可与马达/电机轴干配合转动的通孔，或所述转动装置为设置于底座中心的转动轴，以及可与所述转动轴配合的传动带或传动齿轮。本实用新型对光刻版的表面冲洗更充分，清洗效果好，且光刻版与夹具通过过盈配合固定在一起，夹具与光刻版的接触面积很小，可以很好地保护光刻版特别是版图面不受损坏。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 夹具 | ||
【主权项】：
1、一种光刻版夹具，其特征在于，包括：一底座，所述底座上固设有一安装架，所述安装架边缘设有内径小于光刻版外径的夹持部，所述夹持部内侧设有放置光刻版的凸垫，其中，所述夹持部由韧性材料制成；所述底座中心还设有一可与马达/电机配合的转动装置。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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