[实用新型]一种太阳能选择性吸收涂层无效

专利信息
申请号: 200820079950.8 申请日: 2008-04-15
公开(公告)号: CN201218622Y 公开(公告)日: 2009-04-08
发明(设计)人: 张秀廷;范兵;李然;赵旭;卢铁军;陈步亮 申请(专利权)人: 北京天瑞星真空技术开发有限公司
主分类号: F24J2/50 分类号: F24J2/50
代理公司: 北京永创新实专利事务所 代理人: 周长琪
地址: 100029*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种太阳能选择性吸收涂层,该涂层在吸热体基材表面由底部到顶部形成三层膜结构,第一层是红外反射层,由金属Nb膜构成,厚度在140~250nm;第二层是吸收层,成分上由Nb与Al2O3的混合物组成,结构上由金属体积百分含量不同的两个亚层构成,第一亚层Nb的厚度为45~75nm,第二亚层Nb的厚度为50~70nm;第三层为减反射层,由Al2O3膜构成,厚度为65~85nm。所述涂层的第一层红外反射层采用Nb靶直流磁控溅射方法制备,第二层吸收层采用Nb靶直流反应磁控溅射技术和Al靶中频孪生磁控溅射技术制备,反应气体为O2;第三层减反射层采用Al2O3靶中频孪生溅射技术,以Ar气作为溅射气体制备。
搜索关键词: 一种 太阳能 选择性 吸收 涂层
【主权项】:
1、一种太阳能选择性吸收涂层,基体为不锈钢材料,其特征在于:所述的选择性吸收涂层由基体开始依次为红外反射层、吸收层和减反射层;所述的红外反射层厚度在140~250nm,采用Nb靶直流磁控溅射方法制备在基体表面;吸收层厚度为95~145nm,采用Nb靶直流反应磁控溅射技术和Al靶中频孪生磁控溅射技术制备在红外反射层表面;减反射层厚度为65~85nm,采用Al2O3靶中频孪生溅射技术制备在吸收层表面;所述的吸收层包括两个亚层结构,第一亚层在红外反射层上制备,厚度为45~75nm,第二亚层在第一亚层上制备厚度为50~70nm。
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