[发明专利]一种晶片及验证缺陷扫描机台的方法有效
申请号: | 200810241031.0 | 申请日: | 2008-12-25 |
公开(公告)号: | CN101451962A | 公开(公告)日: | 2009-06-10 |
发明(设计)人: | 张维怡;黄文亮;王湛 | 申请(专利权)人: | 北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司 |
主分类号: | G01N21/93 | 分类号: | G01N21/93 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 | 代理人: | 郭润湘 |
地址: | 100871北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种验证缺陷扫描机台的方法,为了解决标准片的费用高,不易频繁的使用的问题,本发明公开的方法包括:在使用标准片验证合格后的缺陷扫描机台上,扫描晶片本体表面带有颗粒的定期测试晶片,记录定期测试晶片上的颗粒参数作为标准颗粒参数;在之后缺陷扫描机台日常监控中,将定期测试晶片在缺陷扫描机台上扫描,记录颗粒参数;比较日常监控中记录的颗粒参数和标准参数的差值,若在设定的阈值范围内,则缺陷扫描机台检测合格,反之则不合格。由于自制定期测试晶片,避免了标准片频繁使用。 | ||
搜索关键词: | 一种 晶片 验证 缺陷 扫描 机台 方法 | ||
【主权项】:
1、一种验证缺陷扫描机台的方法,其特征在于,包括:在使用标准片验证合格后的缺陷扫描机台上,扫描晶片本体表面带有颗粒的定期测试晶片,记录定期测试晶片上的颗粒参数作为标准颗粒参数;在之后缺陷扫描机台日常监控中,将定期测试晶片在缺陷扫描机台上扫描,记录颗粒参数;比较日常监控中记录的颗粒参数和标准参数的差值,若在设定的阈值范围内,则缺陷扫描机台检测合格,反之则不合格。
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