[发明专利]一种利用劳埃镜实现无掩模表面等离子体干涉光刻的装置无效
| 申请号： | 200810239210.0 | 申请日： | 2008-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN101441421A | 公开（公告）日： | 2009-05-27 |
| 发明（设计）人： | 方亮;王长涛;刘尧;罗先刚 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人： | 贾玉忠;卢 纪 |
| 地址： | 610209*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 利用劳埃镜实现无掩模表面等离子体干涉光刻的装置，包括调节入射光角度的精密转台，耦合激发表面等离子体干涉的直角梯形棱镜，压紧基片和直角梯形棱镜的压紧装置，固定压紧装置的支架；将直角梯形棱镜一个侧面固定于精密转台上，使P偏振的激光束垂直入射至其斜面，微调精密转台确定激发表面等离子体的实际共振角；将涂有光刻胶的基片置于棱镜底面并调节压紧装置将棱镜和基片压紧；用宽光束以实际共振角入射至棱镜，在金属膜下表面实现表面等离子体干涉并对光刻胶曝光；取下曝光后的基片；对光刻胶后烘、显影，实现表面等离子体干涉光刻；本发明具有成本低廉、工作效率高、加工图形区域面积大、容易装调等优点，还有利于纳米光子晶体和人工材料的研究和应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 劳埃镜 实现 无掩模 表面 等离子体 干涉 光刻 装置 | ||
【主权项】：
1、一种利用劳埃镜实现无掩模表面等离子体干涉光刻的装置，其特征在于：包括：用于调节入射光角度的精密转台；用于耦合激发表面等离子体干涉的直角梯形棱镜；用于压紧基片和直角梯形棱镜的压紧装置；用于固定压紧装置的支架。
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