[发明专利]掩模盒无效
申请号: | 200810185499.2 | 申请日: | 2008-12-16 |
公开(公告)号: | CN101750872A | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
发明(设计)人: | 吕保仪;林志铭 | 申请(专利权)人: | 家登精密工业股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/20;B65D85/30;B65D81/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种掩模盒,包括一具有第一容置空间的上盖体及一具有第二容置空间的下盖体,上盖体与下盖体盖合后形成一第三容置空间,其中掩模盒的特征在于:掩模盒具有多个支撑件以悬空方式分别配置于上盖体及下盖体的内表面的角落上,这些支撑件的两端分别与内表面角落的相邻两侧边相连接以形成一封闭片体,并于封闭片体的转折处形成一缺口。当掩模存放于掩模盒的第三容置空间时,掩模的四个角落放置于悬空的支撑件的缺口中,而当上下盖体盖合时,支撑件抵持于掩模的棱线,通过此可确保掩模的稳固性,避免不必要的碰撞导致掩模产生位移或受损。 | ||
搜索关键词: | 掩模盒 | ||
【主权项】:
一种掩模盒,包括一具有第一容置空间的上盖体及一具有第二容置空间的下盖体,该上盖体与该下盖体各具有一外表面与一内表面,该上盖体的该外表面具有一顶盖部分及该下盖体的该外表面具有一底盖部分,该上盖体与该下盖体盖合后形成一第三容置空间,且该上盖体的顶盖部分与该下盖体的底盖部分为相对应,其特征在于:该掩模盒具有多个支撑件以悬空方式分别配置于该上盖体及该下盖体的内表面的角落上,这些支撑件的两端分别与该内表面角落的相邻两侧边连接以形成一封闭片体。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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