[发明专利]多种气体直通道喷头有效
申请号: | 200810170603.0 | 申请日: | 2008-10-16 |
公开(公告)号: | CN101413112A | 公开(公告)日: | 2009-04-22 |
发明(设计)人: | 布赖恩·H·伯罗斯;亚历山大·塔姆;罗纳德·史蒂文斯;肯里克·T·乔伊;詹姆斯·D·费尔斯克;雅各布·格雷森;萨姆埃德霍·阿卡赖亚;桑迪普·尼杰霍安;洛里·D·华盛顿;尼欧·谬 | 申请(专利权)人: | 应用材料股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/18;C23C16/30 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了多种气体直通道喷头,更具体地提供了一种可以用于化学气相沉积和/或氢化物气相外延(HVPE)的方法和装置。在一个实施例中,金属有机化学气相沉积(MOCVD)工艺用于在多个衬底上沉积III族氮化物膜。诸如三甲基镓、三甲基铝、和三甲基铟的III族前驱物以及诸如氨的含氮前驱物被输送到多个对所述前驱物气体进行隔离的多个直的通道。前驱物气体被注入到混合通道,其中所述气体在进入包含衬底的处理容积之前在该混合通道处混合。提供热交换通道用于混合通道的温度控制以防止前驱物的不期望冷凝和反应。 | ||
搜索关键词: | 多种 气体 通道 喷头 | ||
【主权项】:
1. 一种喷头装置,包括:用于第一前驱物气体的多个直的且平行的气流通道;以及用于第二前驱物气体的多个直的且平行的气流通道,其中用于所述第一前驱物气体的所述气流通道平行于用于所述第二前驱物气体的所述气流通道。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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