[发明专利]真空台以及一种用于支持物体的方法有效

专利信息
申请号: 200810144643.8 申请日: 2008-04-14
公开(公告)号: CN101319922A 公开(公告)日: 2008-12-10
发明(设计)人: A·本-纳坦 申请(专利权)人: 卡姆特有限公司
主分类号: G01D11/00 分类号: G01D11/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王会卿
地址: 以色列米格*** 国省代码: 以色列;IL
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摘要: 发明公开了一种用于支持物体的方法以及真空台。所述真空台包括:包括平坦的上表面和第一组孔的真空板;包括至少一个空腔的支持元件,空气通过该至少一个空腔被抽吸;设置在支持元件和真空板之间的可替换的适配器;其中,该可替换的适配器包括第二组孔;其中,该第二组孔的孔显著小于第一组孔的相应孔;其中,该第二组孔的孔与第一组孔的孔至少部分重叠;而且其中,该真空板显著比该可替换的适配器厚。
搜索关键词: 真空 以及 一种 用于 支持 物体 方法
【主权项】:
1、真空台,包括:真空板,所述真空板包括平坦的上表面和第一组孔;支持元件,所述支持元件包括至少一个空腔,空气通过所述至少一个空腔被抽吸;以及可替换的适配器,所述可替换的适配器没置在支持元件和真空板之间;其中,所述可替换的适配器包括第二组孔;其中,所述第二组孔的孔显著小于所述第一组孔的相应孔;其中,所述第二组孔的孔与所述第一组孔的孔至少部分重叠,而且其中,所述真空板显著比所述可替换的适配器厚。
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