[发明专利]光束合成方法无效
| 申请号： | 200810117576.0 | 申请日： | 2008-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN101639601A | 公开（公告）日： | 2010-02-03 |
| 发明（设计）人： | 许祖彦;高宏伟;彭钦军;许家林;崔大复;薄勇;王志敏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院理化技术研究所 |
| 主分类号： | G02F1/35 | 分类号： | G02F1/35;G02B27/10 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王 勇 |
| 地址： | 100190北*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种光束合成方法，将多条入射光束耦合进入折射率等于零的材料中，并由所述折射率等于零的材料的平面型出射面出射；本发明的光束合成方法，使用有效折射率等于零的低折射率材料将多路入射光在空间合成一束，具有如下优点：合成光束的功率是多束入射光功率的和；合成光束的发散角趋近于零，且光束质量不受入射光的限制，这将对光束合成技术的发展具有重要意义；本发明的合成方法适用于连续、脉冲等各种运转方式的激光，也适用于LED光等普通光束，同时无需精密调节光路，且结构简单，使用的光学器件少，具有成本低廉、适用范围广、操作简便和稳定性高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 光束 合成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光束合成方法，将多条入射光束耦合进入折射率等于零的材料中，并由所述折射率等于零的材料的平面型出射面出射。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院理化技术研究所，未经中国科学院理化技术研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810117576.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
