[发明专利]光束合成方法无效
| 申请号： | 200810117576.0 | 申请日： | 2008-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN101639601A | 公开（公告）日： | 2010-02-03 |
| 发明（设计）人： | 许祖彦;高宏伟;彭钦军;许家林;崔大复;薄勇;王志敏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院理化技术研究所 |
| 主分类号： | G02F1/35 | 分类号： | G02F1/35;G02B27/10 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王 勇 |
| 地址： | 100190北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光束 合成 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种光束合成方法，将多条入射光束耦合进入折射率等于零的材料中，并由所述折射率等于零的材料的平面型出射面出射。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述折射率等于零的材料为负折射率材料或光子晶体。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述耦合方法为直接耦合、光纤耦合或采用光学元件耦合。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，将光源设置在所述折射率等于零的材料内部。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述光源为激光二极管、发光二极管、发光二极管芯片。
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