[发明专利]液体喷射头及其制造方法有效
| 申请号： | 200810088065.0 | 申请日： | 2008-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN101274517A | 公开（公告）日： | 2008-10-01 |
| 发明（设计）人： | 高部本规;角浩二 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | B41J2/14 | 分类号： | B41J2/14;B41J2/045;B41J2/16;H01L41/08 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 雒运朴;李伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够切实抑制压电元件的位移量的变化、具有稳定的油墨喷出特性的液体喷射头及其制造方法。该液体喷射头具备：流道形成基板，其形成有与喷射液体的喷嘴开口相连通的压力发生室；压电元件，其由设置于该流道形成基板的一个表面侧的下电极、压电体层及上电极构成，上述压电体层由锆钛酸铅构成，是在(100)面上优先取向的菱形晶系构造或者单斜晶系构造，且饱和极化Pm以及剩余极化Pr满足33％≤2Pr/2Pm≤46％。 | ||
| 搜索关键词： | 液体 喷射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种液体喷射头，具备：流道形成基板，其形成有与喷射液体的喷嘴开口相连通的压力发生室；压电元件，其由设置于该流道形成基板的一个表面侧的下电极、压电体层及上电极构成，其特征在于，上述压电体层由锆钛酸铅构成，是在(100)面上优先取向的菱形晶系构造或者单斜晶系构造，且饱和极化Pm以及剩余极化Pr满足33％≤2Pr/2Pm≤46％。
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