[发明专利]金属微粒分散膜及金属微粒分散膜的制造方法无效
| 申请号： | 200810087861.2 | 申请日： | 2008-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN101276124A | 公开（公告）日： | 2008-10-01 |
| 发明（设计）人： | 丸山美保;都鸟显司;多田宰;吉村玲子;山田纮 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G02F1/35 | 分类号： | G02F1/35;C03C14/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 段承恩;田欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种制造不使金属微粒凝聚而是使之高密度地分散在硅氧化膜内的金属微粒分散膜的方法。本发明的金属微粒分散膜的制造方法，其特征在于，通过将有机硅烷进行使侧链上残存羟基或醇盐基的水解和缩聚反应来形成硅氧化膜，使所述硅氧化膜与酸性的氯化锡水溶液接触，接着，通过使所述硅氧化膜与金属螯合物的水溶液接触而使金属微粒分散在硅氧化膜中。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 微粒 分散 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种金属微粒分散膜的制造方法，其特征在于，通过使有机硅烷进行使侧链上残存羟基或醇盐基的水解和缩聚反应来形成硅氧化膜，使所述硅氧化膜与酸性的氯化锡水溶液接触，接着，通过使所述硅氧化膜与金属螯合物的水溶液接触，使金属微粒分散在硅氧化膜中。
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