[发明专利]测量系统、光刻设备和测量方法有效
| 申请号： | 200810086782.X | 申请日： | 2008-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN101276155A | 公开（公告）日： | 2008-10-01 |
| 发明（设计）人： | 马克·威廉姆斯·玛丽亚·范德威吉斯特;恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇;克恩·雅克布斯·约翰尼斯·玛丽亚·扎安尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01D5/38 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种编码器类型的测量系统、一种光刻设备和一种测量方法。所述测量系统被配置用于测量可移动对象的位置依赖信号，包括：可安装在所述可移动对象上的至少一个传感器；传感器目标对象，其可安装在基本静止的框架上；以及安装装置，其被配置用于将所述传感器目标对象安装到所述基本静止的框架上。所述测量系统还包括补偿装置，所述补偿装置配置用于至少部分地补偿所述传感器目标对象相对于所述基本静止的框架的运动和/或变形。所述补偿装置可以包括无源或有源阻尼装置和/或反馈位置控制系统。在可选的实施例中，所述补偿装置包括在所述可移动对象的高精度运动过程中固定所述传感器目标对象的位置的夹紧装置。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 系统 光刻 设备 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种编码器类型的测量系统，所述测量系统被配置用于测量可移动对象的位置依赖信号，所述测量系统包括：至少一个传感器，可安装在所述可移动对象上；传感器目标对象，所述传感器目标对象包括可安装在基本静止的框架上的光栅或栅格；安装装置，所述安装装置被配置用于将所述传感器目标对象安装到所述基本静止的框架上；以及补偿装置，所述补偿装置被配置用于至少部分地补偿所述传感器目标对象相对于所述基本静止的框架的运动、或变形、或运动和变形。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810086782.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
