[发明专利]测量系统、光刻设备和测量方法有效
申请号: | 200810086782.X | 申请日: | 2008-03-26 |
公开(公告)号: | CN101276155A | 公开(公告)日: | 2008-10-01 |
发明(设计)人: | 马克·威廉姆斯·玛丽亚·范德威吉斯特;恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇;克恩·雅克布斯·约翰尼斯·玛丽亚·扎安尔 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01D5/38 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 王波波 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测量 系统 光刻 设备 测量方法 | ||
1.一种编码器类型的测量系统,所述测量系统被配置用于测量可移动对象的位置依赖信号,所述测量系统包括:
至少一个传感器,可安装在所述可移动对象上;
传感器目标对象,所述传感器目标对象包括可安装在基本静止的框架上的光栅或栅格;
安装装置,所述安装装置被配置用于将所述传感器目标对象安装到所述基本静止的框架上;以及
补偿装置,所述补偿装置被配置用于至少部分地补偿所述传感器目标对象相对于所述基本静止的框架的运动、或变形、或运动和变形。
2.根据权利要求1所述的测量系统,其中所述补偿装置包括阻尼装置,所述阻尼装置被配置用于衰减所述传感器目标对象的运动、或者变形、或者运动和变形。
3.根据权利要求2所述的测量系统,其中所述阻尼装置是无源阻尼装置。
4.根据权利要求2所述的测量系统,其中所述阻尼装置是有源阻尼装置。
5.根据权利要求1所述的测量系统,其中所述补偿装置包括反馈位置控制系统。
6.根据权利要求1所述的测量系统,其中所述补偿装置包括阻尼装置和位置控制系统,所述阻尼装置被配置用于在所述传感器目标对象的谐振频率范围内进行补偿,所述位置控制系统被配置用于在低于所述谐振频率范围的频率范围内进行补偿。
7.根据权利要求1所述的测量系统,其中所述补偿装置包括固定装置,所述固定装置被配置用于在所述可移动对象的高精度运动过程中固定所述传感器目标对象,以便以至少一个自由度相对于所述基本静止的框架固定所述传感器目标对象。
8.根据权利要求7所述的测量系统,其中所述固定装置能够以六个自由度固定所述传感器目标对象。
9.根据权利要求1所述的测量系统,其中所述安装装置包括多个挠性元件,每个所述挠性元件用于将所述传感器目标对象连接到所述基本静止的框架,至少一个所述挠性元件在至少一个自由度上是挠性的。
10.根据权利要求1所述的测量系统,其中所述传感器目标对象是包括光栅或栅格的传感器目标板。
11.根据权利要求10所述的测量系统,其中所述传感器目标板是光栅板或栅格板。
12.根据权利要求1所述的测量系统,其中所述补偿装置被配置用于补偿所述传感器目标对象的垂直位移。
13.根据权利要求1所述的测量系统,其中所述补偿装置被配置用于补偿所述传感器目标对象的水平位移。
14.根据权利要求1所述的测量系统,其中所述可移动对象是光刻设备的衬底台或掩模版台。
15.根据权利要求1所述的测量系统,其中所述位置依赖信号是所述可移动对象的位置、速度或加速度信号。
16.一种测量系统,所述测量系统被配置用于测量可移动对象相对于基本静止的框架的位置依赖信号,所述测量系统包括:
至少一个系统部件;
安装装置,所述安装装置被配置用于将所述系统部件安装到所述基本静止的框架上;以及
补偿装置,所述补偿装置被配置用于至少部分地补偿所述系统部件相对于所述基本静止的框架的运动、或变形、或运动和变形。
17.根据权利要求16所述的测量系统,其中所述测量系统是编码器类型的测量系统,且所述至少一个系统部件包括栅格或光栅。
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