[发明专利]一种双面镂空板的制造方法有效
申请号: | 200810068482.9 | 申请日: | 2008-07-11 |
公开(公告)号: | CN101626661A | 公开(公告)日: | 2010-01-13 |
发明(设计)人: | 邓柏林;魏海琴 | 申请(专利权)人: | 比亚迪股份有限公司 |
主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518118广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种双面镂空板的制造方法。所述方法包括:铜箔裁断;钻孔;化研;干膜层压:将干膜层压在第一层铜箔的上表面;贴盖膜:将双面铜箔进行对位,将盖膜贴在第二层铜箔的下表面,进行预压;热压盖膜;烘烤;再次化研;干膜层压:在压有盖膜的第二层铜箔盖膜表面层压一层干膜;曝光;显影;剥膜;第3次化研;再次贴盖膜:将双面铜箔进行对位,并且在第一层铜箔上表面贴盖膜;再次热压盖膜;后续步骤。本发明公开了一种双面镂空板的制造方法,在铜箔上热压一面盖膜之前先在该铜箔的另一面层压一面干膜,用来保护铜面,避免在贴合、热压盖膜时产生异物,影响线路良率,同时提前给铜箔增加了厚度,可以大大较少制作过程中的铜箔褶皱;本发明有效的降低了镂空板成品不良率。 | ||
搜索关键词: | 一种 双面 镂空 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种双面镂空板的制造方法,其特征在于,它按照以下步骤进行:(1).铜箔裁断,将铜箔裁取设计要求的双面铜箔;(2).钻孔;根据设计要求在所述双面铜箔上钻孔;(3).化研:对铜箔表面进行表面化学处理;(4).干膜层压;将干膜层压在第一层铜箔的上表面;(5).贴盖膜:将双面铜箔进行对位,将盖膜贴在第二层铜箔的下表面,进行预压;(6).热压盖膜:将步骤(5)的铜箔与盖膜进行热压;(7).烘烤;(8).再次化研:将铜箔表面进行第二次表面化学处理;(9).干膜层压:在压有盖膜的第二层铜箔盖膜表面层压一层干膜;(10).曝光:将设计完成的线路图案进行曝光;(11).显影:对曝光后的干膜进行显影;(12).蚀刻:对双面铜箔线路蚀刻;(13).剥膜:线路形成后将两面的干膜剥除;(14).第3次化研:对铜箔表面第三次表面化学处理;(15).再次贴盖膜:将双面铜箔进行对位,并且在第一层铜箔上表面贴盖膜;(16).再次热压盖膜:将步骤(15)的铜箔与盖膜进行热压;(17).后续步骤。
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