[发明专利]抛光光学元件的复配抛光粉及制备方法和抛光工艺有效
| 申请号： | 200810046208.1 | 申请日： | 2008-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN101362925A | 公开（公告）日： | 2009-02-11 |
| 发明（设计）人： | 陈兴建;曾贤高 | 申请（专利权）人： | 成都贝瑞光电子材料技术有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;B24B13/00 |
| 代理公司： | 成都市辅君专利代理有限公司 | 代理人： | 胡承锦;杨海燕 |
| 地址： | 610000四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明抛光光学元件的复配抛光粉及制备方法以及抛光工艺属于光学元件的抛光用的消耗性材料以及制备方法，以及用该抛光粉的抛光工艺。抛光粉由按重量比为0.5份～3.0份的三氧化二铬粉，和1.0份的三氧化二铝粉组成，三氧化二铬粉的粒度为0.05～0.10微米，三氧化二铝粉的粒度为0.05～0.10微米。抛光工艺包括1)上光学元件的抛光模、2)填抛光粉、3)放上镜盘、4)固定镜盘、5)摩擦抛光。抛光模是由按重量比为500份的抛光沥青，和20～200份的三氧化二铝粉组成；该抛光工艺中用本发明的抛光粉和抛光模对硒化锌光学元件的抛光可达表面光洁度可达到20－10以上。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 光学 元件 制备 方法 工艺 | ||
【主权项】：
1、光学元件的复配抛光粉，由按重量比为0.5份～3.0份的三氧化二铬粉，和1.0份的三氧化二铝粉组成，三氧化二铬粉的粒度为0.05～0.10微米，三氧化二铝粉的粒度为0.05～0.10微米。
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