[发明专利]抛光光学元件的复配抛光粉及制备方法和抛光工艺有效
| 申请号: | 200810046208.1 | 申请日: | 2008-09-28 |
| 公开(公告)号: | CN101362925A | 公开(公告)日: | 2009-02-11 |
| 发明(设计)人: | 陈兴建;曾贤高 | 申请(专利权)人: | 成都贝瑞光电子材料技术有限公司 |
| 主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;C09K3/14;B24B13/00 |
| 代理公司: | 成都市辅君专利代理有限公司 | 代理人: | 胡承锦;杨海燕 |
| 地址: | 610000四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 抛光 光学 元件 制备 方法 工艺 | ||
1.光学元件的复配抛光粉,由按重量比为0.5份~3.0份的三氧化二铬粉,和1.0份的三氧化二铝粉组成,三氧化二铬粉的粒度为0.05~0.10微米,三氧化二铝粉的粒度为0.05~0.10微米。
2.根据权利要求1所述的光学元件的复配抛光粉,其特征在于:由按重量比为1.0份~2.0份的三氧化二铬粉,和1.0份的三氧化二铝粉组成。
3.根据权利要求1所述的光学元件的复配抛光粉,其特征在于:由按重量比为1.5份三氧化二铬粉,和1.0份的三氧化二铝粉组成。
4.根据权利要求1或2或3所述的光学元件的复配抛光粉的制备方法,按重量配方比,把三氧化二铬粉和三氧化二铝粉混合均匀制得复配抛光粉。
5.用权利要求1或2或3所述的光学元件的复配抛光粉的抛光工艺,包括以下步骤:
(1)制备抛光模:
(A)加热熔化抛光沥青:把常温状态为固体的抛光沥青置于温度为68℃~80℃条件下,把固体抛光沥青熔化成液体抛光沥青;
(B)混均:在68℃~80℃条件下,向液体抛光沥青中加入三氧化二铝粉,搅拌混合均匀,获得抛光沥青与三氧化二铝粉混合液;
(C)固化:把抛光沥青与三氧化二铝粉混合液倾倒在平整模板上,自然冷却固化,获得光学元件的抛光模;
(D)开掘储磨料槽:在已固化的抛光模表面开槽,槽深度1mm~3mm,槽宽1mm~2mm;槽用于储存抛光过程中的抛光粉;
在已固化的光学元件的抛光模表面开多条槽,多条槽为圆形、方形或菱形;
(2)上光学元件的抛光模:用螺纹连接把光学元件的抛光模固定在磨床主轴上;光学元件的抛光模是由按重量比为500份的抛光沥青,和20~200份的三氧化二铝粉组成;抛光沥青是55#~82#抛光沥青,三氧化二铝粉的粒度为0.50~2.00徽米;
(3)填入光学元件的复配抛光粉:先把光学元件的复配抛光粉加干净水调成悬浮液,在抛光模表面倒入光学元件的复配抛光粉悬浮液,按每平方厘米填入光学元件的复配抛光粉0.1毫克~0.6毫克;
(4)放上镜盘:把镜盘轻轻放在抛光模上,使镜盘与抛光盘相吻合;
(5)固定镜盘:用铁笔头压在镜盘上的固定孔内,再加上合适荷重;
(6)摩擦抛光:开启磨床,磨床主轴的转速为60转~70转/分,抛光模表面对被抛光元件的压力为10克~50克/平方厘米。
6.根据权利要求5所述的光学元件的复配抛光粉的抛光工艺,其特征在于:抛光沥青是68#~73#抛光沥青。
7.根据权利要求5所述的光学元件的复配抛光粉的抛光工艺,其特征在于:抛光沥青是64#抛光沥青。
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