[发明专利]一种在旋涂法中提高所制备薄膜厚度的方法无效
| 申请号： | 200810045514.3 | 申请日： | 2008-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN101324756A | 公开（公告）日： | 2008-12-17 |
| 发明（设计）人： | 杜晓松;蒋亚东;胡佳 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;B05C11/02;B05D3/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610054四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种在旋涂法中提高所制备薄膜厚度的方法，系在镀膜基板上利用旋涂光刻胶或粘贴胶带的方法设置凸起的台阶，台阶的高度为5－500μm，形成闭合的边框，在边框围成的区域内滴加溶液利用旋涂法制备薄膜。采用该方法可以大幅度地提高每次旋涂薄膜的厚度，适用于需要制备厚膜的诸多领域，可减少重复旋涂的次数。本方法工艺简单，操作性强，具有较强的应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 旋涂法中 提高 制备 薄膜 厚度 方法 | ||
【主权项】：
1、一种在旋涂法中提高所制备薄膜厚度的方法，其特征在于，对镀膜基板进行预处理，使基板四周边缘区域带有凸起的台阶，台阶形成闭合的边框，薄膜旋涂制备在边框形成的闭合区域内。
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