[发明专利]一种在旋涂法中提高所制备薄膜厚度的方法

权利要求书

1.一种在旋涂法中提高所制备薄膜厚度的方法，其特征在于，对镀膜基板进行预处理，使基板四周边缘区域带有凸起的台阶，台阶形成闭合的边框，薄膜旋涂制备在边框形成的闭合区域内，旋涂薄膜的厚度通过调节台阶的高度来调节。

2.根据权利要求1所述的在旋涂法中提高所制备薄膜厚度的方法，其特征在于，所述的台阶是通过旋涂光刻胶或粘贴胶带的方法形成，台阶的高度为5-500μm。

3.根据权利要求1所述的在旋涂法中提高所制备薄膜厚度的方法，其特征在于，所述的闭合区域的形状是圆环形或多边形。

4.根据权利要求1所述的在旋涂法中提高所制备薄膜厚度的方法，其特征在于，所述光刻胶台阶的制备步骤包括：①旋涂光刻胶；②在掩模下曝光；③显影形成台阶；④高温烘烤固化。