[发明专利]相变薄膜微区光谱测量装置和测量方法无效

专利信息
申请号: 200810040993.X 申请日: 2008-07-25
公开(公告)号: CN101324525A 公开(公告)日: 2008-12-17
发明(设计)人: 翟凤潇;魏劲松;王阳;吴谊群 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G01N21/59 分类号: G01N21/59;G01N21/55
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 张泽纯
地址: 201800上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种相变薄膜微区光谱测量装置和测量方法,该装置由光源、光阑、斩光器、第二半反半透镜、第三半反半透镜、物镜、成像透镜、第一透镜、第一光谱仪、第一光电探测器、锁相放大器、第二光电探测器、第二光谱仪、第二透镜、第三透镜、声光器件、第四透镜、扩束镜、激光器和计算机构成,本发明可以测试待测样品在激光不同激发条件下,包括不同激光功率、脉宽、重复频率、作用次数的激光诱导相变前后的微区透射光谱和反射光谱。可用于评价相变薄膜的微区光学响应特性和光热稳定性。
搜索关键词: 相变 薄膜 光谱 测量 装置 测量方法
【主权项】:
1、一种相变薄膜微区光谱测量装置,其特征在于:该装置由光源(1)、光阑(2)、斩光器(3)、第二半反半透镜(5)、第三半反半透镜(6)、物镜(7)、成像透镜(9)、第一透镜(10)、第一光谱仪(11)、第一光电探测器(12)、锁相放大器(13)、第二光电探测器(14)、第二光谱仪(15)、第二透镜(16)、第三透镜(17)、声光器件(18)、第四透镜(19)、扩束镜(20)、激光器(21)和计算机(24)构成,其位置关系如下:由所述的光源(1)出射的光经光阑(2),通过斩光器(3)的调制,再依次经过第二半反半透镜(5)、第三半反半透镜(6)透过的光经过物镜(7)聚焦照射到样品台上的样品(8)的表面上,透过所述的样品(8)的光经过成像透镜(9)和第一透镜(10)进入第一光谱仪(11),光谱信号由第一光电探测器(12)探测;被所述的样品(8)反射的光经过所述的物镜(7)返回成像,然后经所述的第三半反半透镜(6)的反射后,经第二透镜(16)的聚焦进入所述的第二光谱仪(15),光谱的信号由第二光电探测器(14)探测,所述的第一光电探测器(12)和第二光电探测器(14)的输出端与锁相放大器(13)的输入端相连,所述的第一光电探测器(12)和第二光电探测器(14)的第二输出端与计算机(24)相连,该计算机(24)的输出端接所述的锁相放大器(13)的第三输入端,该锁相放大器(13)参考输入端接所述的斩光器(3),在所述的第二半反半透镜(5)的反射光方向依次是第三透镜(17)、声光器件(18)、第四透镜(19)、扩束镜(20)和激光器(21)。
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