[发明专利]一种用于金属化学机械抛光的抛光浆料及其用途有效
| 申请号： | 200810039298.1 | 申请日： | 2008-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN101608098A | 公开（公告）日： | 2009-12-23 |
| 发明（设计）人： | 徐春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/14 | 分类号： | C09G1/14;C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于金属化学机械抛光的抛光浆料及其用途，该抛光浆料含有氧化剂、研磨颗粒和载体，其中，所述的氧化剂选自高锰酸、锰酸、及其可溶性盐中的一种或多种，优选的还包括一种或多种氧化还原电位高于二价锰离子的水溶性氧化剂，过氧化物除外。本发明的抛光浆料通过高锰酸、锰酸、或其可溶性盐的作用，优选的通过高锰酸、锰酸、或其可溶性盐中与另一种氧化剂产生协同作用，增加了金属的绝对去除速率，降低了抛光颗粒的使用，从而降低成本和降低介电层的绝对去除速率，使缺陷、划伤、粘污和其它残留明显下降；并且其在平坦化过程中具有较小的对介电质的相对去除速率选择比，可以防止金属平坦化过程中产生的介电质侵蚀，提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 金属 化学 机械抛光 抛光 浆料 及其 用途 | ||
【主权项】：
1、一种用于金属化学机械抛光的抛光浆料，含有氧化剂、研磨颗粒和载体，其特征在于，所述的氧化剂包括选自高锰酸、锰酸、及其可溶性盐中的一种或多种。
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