[发明专利]低紫外光学损耗的氧化铝薄膜的制备方法

摘要

一种低紫外光学损耗的氧化铝薄膜的制备方法，该方法主要包括下列步骤：首先将基片在水中进行超声波清洗，再用石油醚经过仔细擦洗。然后将基片和材料放入真空室内的夹具上和坩埚里，采用电子束热蒸发方法镀氧化铝薄膜。镀膜过程中不充入反应气体，残余气体为空气，工作真空度为3.5×10^－3Pa－7.5×10^－3Pa，沉积温度为300℃－350℃。最后采用镀膜后退火处理技术对沉积的薄膜进行后处理，退火炉中的气体为空气。本发明方法可大幅度降低氧化铝薄膜的紫外光学损耗，而且具有效率高、工艺简单和成本较低的特点。

主权项

1.一种低紫外光学损耗氧化铝薄膜的制备方法，其特征在于，该方法包含下列步骤：1)将颗粒状氧化铝材料放入电子束热蒸发镀膜设备真空室内的坩埚里，氧化铝材料的纯度标定在99.9％以上；2)将基片在水中进行超声波清洗，时间为1-2分钟；将清洗过的基片用石油醚擦洗后装入真空室内的夹具上；3)抽真空半小时后开始加烘烤，烘烤温度为300℃-350℃；4)本底真空度达到6.5×10-3Pa时开始对材料进行预融，预融后镀膜，工作真空度为3.5×10-3-7.5×10-3Pa，残余气体为空气；5)将镀膜后的样品冷却后取出，进行镀膜后退火处理，退火处理采用普通的加热炉，退火气氛为空气，退火温度为300℃-400℃，保温时间为1-2小时，即制得氧化铝薄膜。