[发明专利]低紫外光学损耗的氧化铝薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种低紫外光学损耗氧化铝薄膜的制备方法，其特征在于，该方法包含下列步骤：

1)将颗粒状氧化铝材料放入电子束热蒸发镀膜设备真空室内的坩埚里，氧化铝材料的纯度标定在99.9％以上；

2)将基片在水中进行超声波清洗，时间为1-2分钟；将清洗过的基片用石油醚擦洗后装入真空室内的夹具上；

3)抽真空半小时后开始加烘烤，烘烤温度为300℃-350℃；

4)本底真空度达到6.5×10^-3Pa时开始对材料进行预融，预融后镀膜，工作真空度为3.5×10^-3-7.5×10^-3Pa，残余气体为空气；

5)将镀膜后的样品冷却后取出，进行镀膜后退火处理，退火处理采用普通的加热炉，退火气氛为空气，退火温度为300℃-400℃，保温时间为1-2小时，即制得氧化铝薄膜。

2.如权利要求1所述的低紫外光学损耗氧化铝薄膜的制备方法，其特征在于，所述方法步骤3)中，烘烤的同时夹具以10-40转/分的速度旋转。

3.如权利要求1所述的低紫外光学损耗氧化铝薄膜的制备方法，其特征在于，所述方法步骤4)中，镀膜时夹具以60-90转/分的速度旋转。