[发明专利]阵式双动连续工件真空热压装置有效
申请号: | 200810032300.2 | 申请日: | 2008-01-04 |
公开(公告)号: | CN101264516A | 公开(公告)日: | 2008-09-17 |
发明(设计)人: | 温兆银;曹佳弟;张富利;徐孝和;顾中华 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
主分类号: | B22F3/02 | 分类号: | B22F3/02;C04B35/645;B30B15/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 20005*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种阵式双动连续工件真空热压装置,包括移动密封闸门(1)、工作室(2)、加热装置(3)、隔热屏(4)、压机(5)、对位装置(6)、真空系统(7)、过渡室(8)、滚动装置(9)、压机移动轨道(10)、推动装置(11)、数控处理器(12),工作室两端设置过渡室,工作室和过渡室底部分别设有滚动和推动装置,运送工件移动,工作室上与真空系统连接,压机设置在工作室上并沿压机移动轨道移动,工作室内设有对位装置,与数控处理器相连,将工件对位位置数据传输给数控处理器并控制压机移动到工件位置。本发明具有工作效率高,结构合理,使用方便等特点,解决了真空热压条件下批量连续加工、压机与进料双动的难题。 | ||
搜索关键词: | 阵式 连续 工件 真空 热压 装置 | ||
【主权项】:
1、阵式双动连续工件真空热压装置,包括移动密封闸门(1)、工作室(2)、加热装置(3)、隔热屏(4)、压机(5)、对位装置(6)、真空系统(7)、过渡室(8)、滚动装置(9)、压机移动轨道(10)、推动装置(11)、数控处理器(12),其中:工作室两端设置过渡室,工作室和过渡室之间及过渡室顶端设有移动密封闸门;工作室的上下左右四周内侧设有隔热屏并与工作室紧密贴附;工作室底部设有滚动装置,过渡室底部设有推动装置,推动装置和滚动装置运送工件移动;工作室上与真空系统连接并控制工作室的真空;压机设置在工作室上并沿平行于工作室的压机移动轨道移动,工作室内设有对位装置,对工件准确定位,对位装置与数控处理器相连,将工件对位位置数据传输给数控处理器,数控处理器控制压机沿压机移动轨道移动到工件位置。
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