[发明专利]阵式双动连续工件真空热压装置有效
申请号: | 200810032300.2 | 申请日: | 2008-01-04 |
公开(公告)号: | CN101264516A | 公开(公告)日: | 2008-09-17 |
发明(设计)人: | 温兆银;曹佳弟;张富利;徐孝和;顾中华 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
主分类号: | B22F3/02 | 分类号: | B22F3/02;C04B35/645;B30B15/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 20005*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 阵式 连续 工件 真空 热压 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种真空热压装置,特别涉及一种阵式双动连续工件真空热压装置。
背景技术
真空热压技术主要用于粉末冶金、陶瓷封接、纳米材料等领域,其工作温度在通常在200℃~2000℃,压力范围一般在0~500t,极限真空度一般在1×10-3Pa。目前,真空热压连续加工装置的报道较少,在以往的实际使用时,一般在真空室内只配备一个工位的压头,这样工作效率很低。如中国专利02217137.1真空热压机,其结构为一工位真空热压,无法适应要求较大量工件热压的需求。
发明内容
本发明主要是针对现有技术所存在的工作效率较低的技术问题,提供一种结构合理,加工性能好,使用方便、工作效率高的阵式双动连续工件真空热压装置,解决了在工件在连续运动过程时真空度的保持、工件准确对位等问题。
本发明主要通过下述技术方案得以解决:
本发明包括移动密封闸门(1)、工作室(2)、加热装置(3)、隔热屏(4)、压机(5)、对位装置(6)、真空系统(7)、过渡室(8)、滚动装置(9)、压机移动轨道(10)、推动装置(11)、数控处理器(12)。
工作室两端设置过渡室,工作室和过渡室之间及过渡室顶端设有移动密封闸门。
工作室的上下左右四周内侧设有隔热屏并与工作室紧密贴附。
工作室底部设有滚动装置,过渡室底部设有推动装置,推动装置和滚动装置运送工件(13)移动。
工作室上与真空系统连接并控制工作室的真空。
压机设置在工作室上并沿平行于工作室的压机移动轨道移动,工作室内设有对位装置,对工件准确定位,对位装置与数控处理器相连,将工件对位位置数据传输给数控处理器,数控处理器控制压机沿压机移动轨道移动到工件位置。
作为优选,真空系统采用旋片泵与分子泵配合使用,其数量由工作室和过渡室的大小决定,当工作区域很大时,为保证真空度,必须增加真空系统的数量。
作为优选,加热装置设置在工作室的上下左右四面,上方与左右两侧加热装置与隔热屏距离为10~50mm,底部加热装置在滚动装置的下方10~50mm。
作为优选,压机带有n个独立工作的压头,n为1~5,当n大于5时,考虑到压力的同步性与被压工件的不一致性,可能导致压力在某个工件压力过大或过小;当分别控制压头时n大于5的成本和占地不是很好。
作为优选,推动装置采用伺服电动推杆,伺服电动推杆安装有导向装置,保证平稳推送。
作为优选,对位装置选用激光对位装置,加热装置采用钼丝,可以保证工件在真空高温条件下不会被加热元件挥发物所污染。
作为优选,隔热屏采用不锈钢隔热屏,这种保温方式由于是光滑的金属屏,因此该保温层对气体分子的吸附能力较弱,可以保证较好的真空条件。
作为优选,加热电源采用直流电,可以保证加热系统在加热过程中产生较小的磁场干扰。
作为优选,工作室上设置观察窗,观察窗,可以很清楚地观察工件在移动、对位、压制过程的情况并予以记录。
更为优选,工作室上设置耐高温数字探头。
综上,本发明具有结构合理,使用方便、有效降低工作强度,提高效率,降低成本。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。其中,1为移动密封闸门、2为工作室、3为加热装置、4为隔热屏、5为压机、6为对位装置、7为真空系统、8为过渡室、9为滚动装置、10为压机移动轨道、11为推动装置、12为数控处理器、13为工件。
图2是本发明的俯视图。其中,12为数控处理器。
图3是本发明的加热装置局部图。
图4是本发明的侧视图。
具体实施方式
下面通过实施例,并结合附图,对本发明做进一步具体说明:
将1或2、3、4、5个工件一排,排成阵列置于托盘上,移动密封闸门开启,自动由大气条件下推入过渡室,移动密封闸门关闭,在预抽真空、预热后由推进装置推入工作室,进行加热到设置温度,滚动装置保证工件以流水线形式移动,当移动到压机附近由激光对位系统进行准确对位,位置数据传输给数控处理器,控制压机控制压机沿压机移动轨道压制一行工件后移动压机进行下一行的对位热压,然后由下一过渡室出料,完成整个真空热压过程。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海硅酸盐研究所,未经中国科学院上海硅酸盐研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810032300.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种自干型裂纹涂料
- 下一篇:一种铝箔胶粘带的制作方法