[发明专利]一种可发生负离子的釉料及其制备和应用方法有效
| 申请号： | 200810029763.3 | 申请日： | 2008-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN101323540A | 公开（公告）日： | 2008-12-17 |
| 发明（设计）人： | 林仁钧;蔡瑞年 | 申请（专利权）人： | 广东三水大鸿制釉有限公司 |
| 主分类号： | C04B41/86 | 分类号： | C04B41/86 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 | 代理人： | 詹仲国 |
| 地址： | 528143广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可发生负离子的釉料，其特征在于，所述釉料配方还包含有可产生电气石微晶结构组成的激发材料和能量传递材料；所述釉料主要配方组成范围(重量比)为SiO2：40～70％，Al2O3：5～15％，K2O+Na2O：5～10％，CaO：0.1～12％，MgO：0.1～10％，ZnO：0.1～10％，B2O3：0.1～10％；激发材料：0.1～10％；能量传递材料：0.1～10％。另外本发明的制备方法包括如下步骤：首先，制备熔块；按照配比混合后进行熔制，然后急速淬冷至常温成为熔块；其次；熔块完成后进行煅烧；最后，研磨成品；其应用方法为添加本釉料2～15％到建筑卫生陶瓷的釉药中，再经施釉过程后于800℃～1300℃下烧制成釉面。本发明具有负离子释放效果好，环保等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 发生 负离子 釉料 及其 制备 应用 方法 | ||
【主权项】：
1、一种可发生负离子的釉料，由主要配方组分构成，其特征在于，所述釉料配方中还包含有可产生电气石微晶结构组成的激发材料和能量传递材料；所述釉料主要配方组成范围(重量比)为SiO2：40～70％，Al2O3：5～15％，K2O+Na2O：5～10％，GaO：0.1～12％，MgO：0.1～10％，ZnO：0.1～10％，B2O3：0.1～10％；所述激发材料：0.1～10％；所述能量传递材料：0.1～10％。
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