[发明专利]一种可发生负离子的釉料及其制备和应用方法

权利要求书

1.一种可发生负离子的釉料，由主要配方组分构成，其特征在 于，所述釉料配方中还包含有可产生电气石微晶结构组成的激发材料 和能量传递材料；所述釉料主要配方组成范围重量比为SiO₂：40～70％， Al₂O₃：5～15％，K₂O+Na₂O：5～10％，CaO：0.1～12％，MgO：0.1～10％，ZnO： 0.1～10％，B₂O₃：0.1～10％；所述激发材料：0.1～10％；所述能量传递 材料：0.1～10％；

所述釉料组成中的激发材料为稀土矿、稀土元素氧化物、稀土元 素盐中的一种或几种；所述釉料组成中的能量传递材料为二氧化钛、 氧化锆、硅酸锆中的一种或几种。

2.一种权利要求1所述可发生负离子的釉料的制备方法，其特 征在于，它包括如下步骤：首先，制备熔块；按照配比，将釉料配方 组成中引入可产生电气石微晶结构组成的激发材料和能量传递材料， 混合后进行熔制，熔制温度为1200℃～1550℃，熔制时间为1.5～8小 时，然后急速淬冷至常温成为熔块；

其次；熔块完成后接着在800℃～1100℃下进行煅烧，煅烧时间 为4～10小时；

最后，研磨成品；煅烧后之熔块利用球磨机湿法研磨到过325目 以上筛，浆料烘干打粉后即成为成品。

3.一种权利要求1所述可发生负离子的釉料的应用方法，其特 征在于，上述釉料成品应用方法为，添加本釉料2～15％到建筑卫生陶 瓷的釉药中，再经过施釉过程后于800℃～1300℃下烧制成釉面。