[发明专利]一种高强度亚微米孔分离膜及其制备方法和应用无效

专利信息
申请号: 200810012051.0 申请日: 2008-06-27
公开(公告)号: CN101612532A 公开(公告)日: 2009-12-30
发明(设计)人: 于志明 申请(专利权)人: 中国科学院金属研究所
主分类号: B01D71/26 分类号: B01D71/26;C02F1/44;B01D46/52;B01D53/22
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 代理人: 张志伟
地址: 110016辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及分离膜制备技术,具体为一种高强度亚微米孔分离膜及其制备方法和应用,解决液体、气体等分离系统中所用分离膜强度低、使用寿命短的问题,可应用到工作温度低于130℃的水处理、气体净化等液体或气体的分离系统中。本发明利用超高分子量聚乙烯为原材料通过烧结法制备高强度亚微米孔分离膜。其制备方法:(1)超高分子量聚乙烯粉体的分筛;(2)支撑体的烧结;(3)整体分离膜的制备。整体分离膜由芯部支撑体和表面分离膜组成,其支撑体厚度在9-20毫米,整体分离膜厚度在15-30毫米,分离膜滤孔直径在0.15-0.06微米范围内可调。本发明可以使得分离膜具有足够的机械强度,有效地延长分离膜的使用寿命。
搜索关键词: 一种 强度 微米 分离 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种高强度亚微米孔分离膜,其特征在于:以超高分子量聚乙烯为原材料通过烧结法制备高强度亚微米孔分离膜,整体分离膜由芯部支撑体和表面分离膜组成,其支撑体厚度在9-20毫米,整体分离膜厚度在15-30毫米,分离膜滤孔直径在0.15-0.06微米范围内可调。
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