[发明专利]显示与氯化十六烷基吡啶鎓高相容性的沉淀二氧化硅材料

摘要

包含多孔二氧化硅颗粒的沉淀二氧化硅，所述多孔二氧化硅颗粒具有如压汞法测量的小于6m²/g的对于具有大于500直径的所有孔的累积表面积，并且具有大于约85％的百分比氯化十六烷基吡啶鎓(％CPC)相容性。沉淀二氧化硅制品特别适合用在含有氯化十六烷基吡啶鎓的洁齿剂中，所述氯化十六烷基吡啶鎓不以有意义的水平附着到低表面积二氧化硅制品上并因此对抗微生物作用保持有效。提供了制备二氧化硅制品的方法，该方法包括在不同过程步骤期间引入硫酸钠粉末以提高与CPC的这种相容性。

主权项

1.一种研磨的沉淀二氧化硅材料，在其上有沉淀二氧化硅的密相包覆，其中所述包覆的沉淀二氧化硅材料显示出在5.5微米与8微米之间的中值粒度、至多约2.4m²/g的对于具有直径大于500的孔的孔面积、以及在140°F下将所述材料老化7天后的至少90％的％CPC相容性。