[发明专利]显示与氯化十六烷基吡啶鎓高相容性的沉淀二氧化硅材料无效

专利信息
申请号: 200780048646.5 申请日: 2007-11-08
公开(公告)号: CN101594846A 公开(公告)日: 2009-12-02
发明(设计)人: P·迈克基尔;卡尔·加利斯 申请(专利权)人: J.M.休伯有限公司
主分类号: A61K8/00 分类号: A61K8/00;A61K8/18
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 代理人: 武晶晶;郑 霞
地址: 美国新*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 显示 氯化 十六 烷基 吡啶 相容性 沉淀 二氧化硅 材料
【权利要求书】:

1.一种研磨的沉淀二氧化硅材料,在其上有沉淀二氧化硅的密相包覆,其中所述包覆的沉淀二氧化硅材料显示出在5.5微米与8微米之间的中值粒度、至多约2.4m2/g的对于具有直径大于500的孔的孔面积、以及在140°F下将所述材料老化7天后的至少90%的%CPC相容性。

2.根据权利要求1所述的研磨的沉淀二氧化硅材料,其中所述材料显示出至少92%的%CPC相容性。

3.根据权利要求2所述的研磨的沉淀二氧化硅材料,其中所述材料显示出至少96%的%CPC相容性。

4.一种洁齿剂,其包括权利要求1所述的二氧化硅材料。

5.一种洁齿剂,其包括权利要求2所述的二氧化硅材料。

6.一种洁齿剂,其包括权利要求3所述的二氧化硅材料。

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