[发明专利]用于有机发光装置的电极、其酸蚀刻以及包括它的有机发光装置有效

专利信息
申请号: 200780042544.2 申请日: 2007-11-16
公开(公告)号: CN101548582A 公开(公告)日: 2009-09-30
发明(设计)人: S·恰库罗夫;P·雷乌特勒 申请(专利权)人: 法国圣-戈班玻璃公司
主分类号: H05B33/26 分类号: H05B33/26;H01L51/52;G02F1/1343;H01J1/30
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 程大军
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明的主题是多层电极(3)、其酸蚀刻和包括多层电极的有机发光装置。用于有机发光装置(10)、称为下层电极的该多层电极连续地包括:基于金属氧化物和/或金属氮化物的接触层(31);具有固有导电性能的金属功能层(32);和直接在功能层上的薄阻隔层(32’),该薄阻隔层包括厚度为5nm或更小的金属层,和/或厚度为10nm或更小的层,其基于亚化学计量的金属氧化物、或亚化学计量的金属氧氮化物、或亚化学计量的金属氮化物;以及包括基于金属氧化物的覆盖层(34)的涂层,以用于匹配逸出功。
搜索关键词: 用于 有机 发光 装置 电极 蚀刻 以及 包括
【主权项】:
1. 用于有机发光装置(10,10’)的基板(1),其在第一主面(11)上具有称为底电极的多层电极(3),该电极(3)连续地包括:-基于金属氧化物和/或金属氮化物的称为接触层(31)的层;-具有固有导电性能的金属功能层(32);和-包括由基于金属氧化物的介电材料制成的覆盖层(34)的薄膜(33,34),其形成逸出功匹配层,其特征在于,多层电极(3)还包括直接在功能层(32)上的薄阻隔层(32’),该薄阻隔层包括厚度为5nm或更小的金属层,和/或厚度为10nm或更小的层,其是基于亚化学计量的金属氧化物、或亚化学计量的金属氧氮化物、或亚化学计量的金属氮化物。
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  • 迫勘治朗;近藤邦夫 - 昭和电工株式会社
  • 2010-05-18 - 2012-04-25 - H05B33/26
  • 本发明的课题在于,提供以简便地操作提高电极的功函数的方法、和具有功函数高的阳极、发光特性(发光效率、寿命)优异、具有辉度不均少、缺陷少的优良品质的发光面、且漏电流小的有机EL元件。本发明提供了一种电极的表面处理方法,其特征在于,包括使由金属氧化物形成的电极与合有下述式(1)所示的硅烷化合物和/或其部分水解缩合物以及水的溶液接触的接触工序,还提供了在通过上述方法表面处理过的由金属氧化物形成的阳极上依次叠层发光层和阴极而成的有机EL元件,Si(OR)p(X)q(OH)4-p-q……(1)[式(1)中,OR分别独立地表示烷氧基或芳氧基,X分别独立地表示上述OR以外的其它水解性基团,P是1~4的整数,q是0~3的整数,并且p+q≤4]。
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