[发明专利]膜形成用材料、以及含硅绝缘膜及其形成方法无效
| 申请号： | 200780030018.4 | 申请日： | 2007-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN101528874A | 公开（公告）日： | 2009-09-09 |
| 发明（设计）人： | 秋山将宏;中川恭志;小久保辉一 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | C09D183/00 | 分类号： | C09D183/00;C23C16/06;H01L21/312 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 左嘉勋;刘继富 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种含硅膜形成用材料，含有右述通式(1)所示的有机硅烷化合物。(式中，R1～R4相同或不同，表示氢原子、碳原子数1～4的烷基、乙烯基、苯基，R5表示碳原子数1～4的烷基、乙酰基、苯基，n表示1～3的整数，m表示1～2的整数。) | ||
| 搜索关键词： | 形成 用材 以及 绝缘 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种含硅膜形成用材料，含有下述通式(1)所示的有机硅烷化合物，![]()
式中，R1～R4相同或不同，表示氢原子、碳原子数1～4的烷基、乙烯基、苯基，R5表示碳原子数1～4的烷基、乙酰基、苯基，n表示1～3的整数，m表示1～2的整数。
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C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
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