[发明专利]浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料无效

专利信息
申请号: 200780013266.8 申请日: 2007-03-30
公开(公告)号: CN101421673A 公开(公告)日: 2009-04-29
发明(设计)人: 武部洋子;王舒钟;横小路修;代田直子;松川泰久;白川大祐 申请(专利权)人: 旭硝子株式会社
主分类号: G03F7/11 分类号: G03F7/11;C08F20/24;H01L21/027
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 刘多益
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料。包含聚合物(F)的碱溶性的浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料,所述聚合物(F)包含通过具有含氟桥环结构的聚合性化合物(fm)的聚合而形成的重复单元(FU)。例如,重复单元(FU)为通过选自下述化合物(f1)~(f4)的化合物(f)的聚合而形成的重复单元;RF表示H、F、碳数1~3的烷基或碳数1~3的氟代烷基,XF表示F、OH或CH2OH。
搜索关键词: 浸没 光刻 用抗蚀剂 保护膜 材料
【主权项】:
1. 碱溶性的浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料,其特征在于,包含聚合物(F),所述聚合物(F)包含通过具有含氟桥环结构的聚合性化合物(fm)的聚合而形成的重复单元(FU)。
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