[发明专利]浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料无效
| 申请号: | 200780013266.8 | 申请日: | 2007-03-30 |
| 公开(公告)号: | CN101421673A | 公开(公告)日: | 2009-04-29 |
| 发明(设计)人: | 武部洋子;王舒钟;横小路修;代田直子;松川泰久;白川大祐 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号: | G03F7/11 | 分类号: | G03F7/11;C08F20/24;H01L21/027 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 刘多益 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明提供浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料。包含聚合物(F)的碱溶性的浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料,所述聚合物(F)包含通过具有含氟桥环结构的聚合性化合物(fm)的聚合而形成的重复单元(FU)。例如,重复单元(FU)为通过选自下述化合物(f1)~(f4)的化合物(f)的聚合而形成的重复单元;RF表示H、F、碳数1~3的烷基或碳数1~3的氟代烷基,XF表示F、OH或CH2OH。 | ||
| 搜索关键词: | 浸没 光刻 用抗蚀剂 保护膜 材料 | ||
【主权项】:
1. 碱溶性的浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料,其特征在于,包含聚合物(F),所述聚合物(F)包含通过具有含氟桥环结构的聚合性化合物(fm)的聚合而形成的重复单元(FU)。
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